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嘉峪檢測(cè)網(wǎng) 2025-07-23 22:51
一、TSV 三維封裝技術(shù)的發(fā)展及現(xiàn)狀
隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,電子器件的體積逐步減小,功能日益強(qiáng)大,成本也越來(lái)越低,極大地促進(jìn)了電子產(chǎn)品在日常生活和生產(chǎn)中的廣泛應(yīng)用。
反過(guò)來(lái),電子器件的廣泛應(yīng)用,如物聯(lián)網(wǎng)、智能終端、工業(yè)智能化的興起,又對(duì)電子器件的高密度集成、多功能化和低功耗提出了更進(jìn)一步的要求。
在摩爾定律時(shí)代,芯片尺寸的縮小是通過(guò)縮小線寬來(lái)實(shí)現(xiàn)的。而近年來(lái),芯片線寬的縮小似乎已經(jīng)進(jìn)入了一個(gè)瓶頸,芯片在平面上的尺寸縮小變得非常困難。實(shí)現(xiàn)多功能集成的片上系統(tǒng)(SoC,System on Chip)也面臨著尺寸擴(kuò)大、互連太長(zhǎng)而導(dǎo)致的諸多問(wèn)題。
為了進(jìn)一步滿足多功能化和高密度集成的要求,突破芯片尺寸的瓶頸,業(yè)內(nèi)開(kāi)始從封裝方面尋求解決的辦法,各種先進(jìn)封裝技術(shù)也因此應(yīng)運(yùn)而生,包括系統(tǒng)性封裝(SiP,System in Package)、扇出型晶圓級(jí)封裝(FOWLP,F(xiàn)an-Out Wafer Level Packaging)、晶圓級(jí)封裝(WLCSP ,Wafer Level Chip Scale Packaging)、扇出型封裝(InFO,Integrated Fan-Out)以及硅通孔(TSV,Through Silicon Via)三維封裝技術(shù)等,如圖所示。

這些先進(jìn)封裝技術(shù)的運(yùn)用,可使芯片能夠在不改變?cè)芯€寬的基礎(chǔ)上,進(jìn)一步減小體積、縮短互連、提升性能以及降低功耗。
TSV 三維封裝是通過(guò) TSV 實(shí)現(xiàn)垂直方向多芯片互連的一種封裝技術(shù),具有互連線短、集成密度高、功耗低等優(yōu)點(diǎn),是最有望實(shí)現(xiàn)“超越摩爾”(More than Moore)戰(zhàn)略的封裝解決方案,也是先進(jìn)封裝領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)之一。
如圖所示,在傳統(tǒng)的二維封裝中,裸片與裸片之間的連接路徑要經(jīng)過(guò)打線鍵合、導(dǎo)線架甚至PCB布線等,距離很長(zhǎng),而在TSV三維封裝中,裸片之間的連接只要通過(guò)上下層的TSV或轉(zhuǎn)接板上的再布線層(RDL,Redistribution Layer)就能實(shí)現(xiàn)。

TSV三維封裝突破了平面集成的限制,顯著的縮短了互連長(zhǎng)度,進(jìn)而降低了互連線上損失的功耗,降低了信號(hào)的RC延時(shí),能大幅提高芯片的集成度和性能。
雖然TSV技術(shù)近年來(lái)才成為研究的熱點(diǎn),但是硅通孔概念的雛形在1956年就已經(jīng)出現(xiàn)。晶體管的發(fā)明者之一William Shockley在專利中提到了在晶圓上制作深通孔(deep pits)用以使信號(hào)從晶圓的一面?zhèn)鬏數(shù)搅硪幻妗?/span>
“Through silicon via” 這個(gè)術(shù)語(yǔ)則由Sergey Savastiouk在文章中最先提出。第一次將TSV技術(shù)用于量產(chǎn)商業(yè)化產(chǎn)品當(dāng)中的是惠普公司,其在1976年發(fā)布的單片微波集成電路(MMIC)產(chǎn)品中首次使用了貫穿IC芯片的通孔技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)接地,但這款產(chǎn)品中的TSV并不是用來(lái)實(shí)現(xiàn)三維封裝。業(yè)界普遍認(rèn)為,第一個(gè)量產(chǎn)的TSV三維封裝產(chǎn)品是東芝公司2008年生產(chǎn)的圖像傳感器,該傳感器使用了芯片上的通孔將傳感芯片上的信號(hào)引出到背面的基板。
TSV三維封裝的應(yīng)用也越來(lái)越廣泛,其應(yīng)用領(lǐng)域包括微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS,Microelectromechanical Systems)、CMOS圖像傳感器(CIS,CMOS Image Sensor)、現(xiàn)場(chǎng)可編程邏輯陣列(FPGA,F(xiàn)ield Programmable Gate Array)、高帶寬內(nèi)存(HBM,High Bandwith Memery)等,如圖所示。

下圖是YOLE預(yù)測(cè)在接下來(lái)幾年,先進(jìn)封裝在不同行業(yè)應(yīng)用增長(zhǎng)情況:

二、TSV三維封裝技術(shù)的分類及優(yōu)缺點(diǎn)
TSV三維封裝技術(shù)通常分為兩類,一類是3D封裝,即通過(guò)微凸塊(microbump)和硅通孔連接上下層芯片,將多顆有源芯片在垂直方向上堆疊,如圖(a)所示。
3D封裝集成的可以是同質(zhì)芯片,比如多個(gè)快速閃存芯片的堆疊,也可以是異質(zhì)芯片,比如邏輯芯片、存儲(chǔ)芯片、RF芯片等集成一體形成系統(tǒng)。
另一類是2.5D封裝,即在無(wú)源的轉(zhuǎn)接板上排列多種同質(zhì)或異質(zhì)芯片,通過(guò)RDL和微凸塊實(shí)現(xiàn)各芯片間的電氣連接,并通過(guò)轉(zhuǎn)接板上的TSV將電源/信號(hào)引入轉(zhuǎn)接板背面,與封裝基板相連,如圖(b)所示。

TSV 3D封裝和2.5D封裝有各自的優(yōu)勢(shì)和缺點(diǎn),適合于不同的制備工藝和應(yīng)用領(lǐng)域。
3D封裝通過(guò)TSV垂直連接多層芯片,可以實(shí)現(xiàn)芯片之間的最短連接。顯然,在目前的先進(jìn)封裝技術(shù)當(dāng)中,它具有最高的集成密度、最小的體積、最低的功耗、最小的RC延時(shí),為芯片設(shè)計(jì)者和制造商所青睞。
但是,3D封裝目前面臨的問(wèn)題同樣很突出。
(1)散熱問(wèn)題
3D封裝集成密度高,封裝中多個(gè)有源芯片緊密堆疊,熱量集中,非常不利于散熱,容易導(dǎo)致芯片結(jié)溫過(guò)高。
(2)熱機(jī)械可靠性問(wèn)題
堆疊的各芯片之間由于熱膨脹系數(shù)不同、溫度不同會(huì)產(chǎn)生應(yīng)力,連接芯片之間的微凸塊上會(huì)形成高應(yīng)力點(diǎn),容易產(chǎn)生失效。另外,TSV本身也會(huì)產(chǎn)生應(yīng)力,影響周圍晶體管的性能。
(3)良率問(wèn)題
3D封裝工藝復(fù)雜,很多技術(shù)還不完全成熟,如晶圓減薄、薄晶圓持拿、TSV電鍍等,因此,相對(duì)于傳統(tǒng)封裝來(lái)說(shuō),制造良率不高。
(4)設(shè)計(jì)軟件開(kāi)發(fā)
與3D結(jié)構(gòu)相應(yīng)的電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA,Electronics Design Automation)軟件還未普及,目前絕大多數(shù)EDA軟件都只適用于二維結(jié)構(gòu)。
(5)相關(guān)產(chǎn)業(yè)鏈還不成熟
例如,缺乏成熟的測(cè)試方法和設(shè)備,需要已知合格芯片(KGD,Know Good Die)供應(yīng)商的整合等。
2.5D封裝采用帶TSV的無(wú)源轉(zhuǎn)接板來(lái)承載有源芯片,雖然在減小互連長(zhǎng)度、提高集成密度方面略遜于3D封裝,但其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)使得2.5D封裝能緩解上述問(wèn)題,成為目前最切實(shí)可行的三維封裝方案。
與3D封裝相比,其優(yōu)勢(shì)包括:
(1)能緩解芯片內(nèi)部的熱應(yīng)力
首先,搭載的有源芯片中并不需要有TSV,硅轉(zhuǎn)接板中雖然有TSV,但是沒(méi)有晶體管,不存在TSV應(yīng)力對(duì)晶體管影響的問(wèn)題。其次,轉(zhuǎn)接板在有源芯片和封裝基底之間,能緩解有源芯片與封裝基底之間的熱失配,減小熱應(yīng)力。
(2)降低熱量累積
2.5D封裝的結(jié)構(gòu)避免了有源芯片的堆疊,減小了熱流密度,且無(wú)源的硅轉(zhuǎn)接板可以增加熱量在芯片內(nèi)水平方向的傳導(dǎo),增強(qiáng)芯片的散熱,降低芯片熱集中點(diǎn)的溫度。
(3)設(shè)計(jì)和集成的方式更靈活
3D封裝中,堆疊的芯片通常要求采用統(tǒng)一的設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)和工藝標(biāo)準(zhǔn)(包括線寬、節(jié)距等),避免堆疊的不匹配,而2.5D封裝中,可以將不同功能、不同生產(chǎn)商生產(chǎn)的不同標(biāo)準(zhǔn)的芯片集成在一起。
(4)與現(xiàn)有IC工藝及封裝工藝兼容性好
2.5D封裝中,承載的有源芯片可以是現(xiàn)有的普通芯片,不需打TSV孔,也不需另行設(shè)計(jì)。管殼的封裝也可使用現(xiàn)有的倒裝焊技術(shù)。在布線設(shè)計(jì)時(shí),可將芯片及轉(zhuǎn)接板RDL布線當(dāng)做二維平面來(lái)看待,使用現(xiàn)有的EDA軟件。
(5)封裝方案可移植性好
3D封裝方案需要根據(jù)不同的應(yīng)用,對(duì)有源芯片進(jìn)行重新設(shè)計(jì),而一套成熟的2.5D轉(zhuǎn)接板集成封裝技術(shù)可很容易的移植到不同的應(yīng)用上,只要將轉(zhuǎn)接板的 RDL布線重新做設(shè)計(jì),不需要對(duì)搭載的有源芯片做改動(dòng),可大大節(jié)省開(kāi)發(fā)的時(shí)間和成本。
三、先進(jìn)封裝的應(yīng)用
2.5D轉(zhuǎn)接板集成和3D封裝各有優(yōu)勢(shì)和劣勢(shì),選擇哪種集成方式需要根據(jù)相應(yīng)工藝、搭載芯片類型等具體考慮。
例如,AMD公司在選擇新一代的三維封裝顯卡架構(gòu)時(shí),可能的選擇有完全的3D堆疊,將顯存直接堆疊在顯卡核心芯片XPU(GPU或CPU)上,如圖(a);或者2.5D封裝,通過(guò)硅轉(zhuǎn)接板將XPU與顯存集成,如圖(b)。

顯然,前一種方案能實(shí)現(xiàn)互聯(lián)更短,面積更小,但是最終AMD選擇的是硅轉(zhuǎn)接板集成方案。這樣選擇的可能是出于降低風(fēng)險(xiǎn)的目的。首先,要在XPU上堆疊顯存,就必須在其上制作 TSV孔,這樣需要對(duì)XPU的架構(gòu)及工藝進(jìn)行重新設(shè)計(jì),加大了開(kāi)發(fā)的風(fēng)險(xiǎn)和成本。其次,顯存和XPU的功耗都不低,且其本身的28納米工藝也存在著發(fā)熱量巨大的問(wèn)題,因此3D堆疊可能會(huì)導(dǎo)致非常嚴(yán)重的熱問(wèn)題,影響器件的可靠性和性能。而2.5D封裝不需要對(duì)現(xiàn)有芯片進(jìn)行改變,可直接使用現(xiàn)成的KGD,保證良率。
同時(shí),硅轉(zhuǎn)接板對(duì)熱源進(jìn)行了分散,緩解了各部件的熱失配問(wèn)題。另外,在硅轉(zhuǎn)接板上,XPU和顯存的連接路徑雖比3D堆疊長(zhǎng)一些,但是比起獨(dú)立封裝或者打線鍵合來(lái)說(shuō)還是有了巨大的改進(jìn)。因此,硅轉(zhuǎn)接板2.5D封裝是一種比較穩(wěn)妥的解決方案。
下圖是關(guān)于封裝的發(fā)展展望,可以預(yù)見(jiàn)接下來(lái)的幾年,先進(jìn)封裝技術(shù)將得到質(zhì)的飛躍,且封裝形式也會(huì)越來(lái)越多樣。

后續(xù)的文章將介紹更多先進(jìn)封裝的細(xì)節(jié),這篇關(guān)于先進(jìn)封裝簡(jiǎn)單的介紹就就到這兒,歡迎關(guān)注《半導(dǎo)體全解》,后續(xù)將會(huì)介紹更多半導(dǎo)體的知識(shí)!
參考文獻(xiàn):
(1)羅江波 高性能硅轉(zhuǎn)接板的系統(tǒng)設(shè)計(jì)及集成制造方法研究[D].
(2)吳道偉 高密度2.5D_TSV轉(zhuǎn)接板關(guān)鍵技術(shù)研究[D].
(3)©Yole Intelligence 2024 High End Performance Packaging 2024
www.yolegroup.com[C].
(4)閔球 三維封裝集成電路中的電熱特性分析研究[D].
(5)龍致遠(yuǎn) 電子互連微孔金屬化方法及機(jī)理研究[D].

來(lái)源:半導(dǎo)體全解